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2010, No.335(15) 451-452

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ICP刻蚀中的二级台阶刻蚀研究
The Research of the Second Step of ICP Etching

张宏坤;谭晓兰;乔宁;

摘要(Abstract):

主要研究了硬盘磁头滑块二级台阶的刻蚀实验。首先研究了ICP刻蚀的刻蚀原理,然后根据二级台阶掩模版的设计要求,设计出掩膜版的图形,并通过ICP刻蚀机加工出磁头滑块。结果表明所提出的二级台阶的刻蚀工艺是合理的,且具有普遍性。

关键词(KeyWords): ICP刻蚀;二级台阶;掩膜版;磁头滑块

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 张宏坤;谭晓兰;乔宁;

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